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Plasma MS 300電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

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產(chǎn)品型號(hào)Plasma MS 300

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產(chǎn)品簡介

ICP-MS全稱電感耦合等離子體質(zhì)譜（Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry), ICP-MS技術(shù)是將ICP的高溫電離特性與四極桿質(zhì)譜計(jì)的靈敏快速掃描的優(yōu)點(diǎn)相結(jié)合而形成一種新型的強(qiáng)有力的元素分析、同位素分析和形態(tài)分析技術(shù)。該技術(shù)具有檢出限低、動(dòng)態(tài)線性范圍寬、干擾少、分析精度高、速度快、可進(jìn)行多元素同時(shí)測定等優(yōu)異的分析性能，已從最初在地質(zhì)科學(xué)研究的應(yīng)

詳細(xì)介紹

儀器特點(diǎn)：

敞開式進(jìn)樣系統(tǒng)，配備外部可裝卸的玻璃同心霧化器與玻璃旋流霧室。4通道12滾輪的蠕動(dòng)泵，與進(jìn)樣系統(tǒng)緊湊的安裝，速度可變，由計(jì)算機(jī)控制
三級(jí)真空系統(tǒng)配置了分流式分子渦輪泵，擁有的氣體排氣量，頂端開啟式真空室，更容易接近分析器組件。
真空室內(nèi)部所有元件的電路連接都采用了固定在真空室頂蓋上的金彈簧頂針接頭，減少了連線，使RF高頻泄漏降到最小，并確保電路通暢。
四極桿電源采用DDS（直接數(shù)字頻率合成）技術(shù)，實(shí)現(xiàn)頻率自動(dòng)匹配。
的碰撞反應(yīng)池技術(shù)有效地消除由樣品基體或等離子源引起的各種多原子離子干擾，同時(shí)保持碰撞反應(yīng)池內(nèi)的副產(chǎn)物最小化。
的數(shù)模信號(hào)轉(zhuǎn)換電路，同時(shí)配有而新穎的檢測器內(nèi)的變壓器系統(tǒng)，提供快速的模擬信號(hào)采集，增加信噪比，改善檢測器在長期使用下的穩(wěn)定性
多通道緩沖器數(shù)據(jù)采集，允許快速不間斷的數(shù)據(jù)采集。
跳峰模式，全掃模式，峰掃描模式，在一次樣品數(shù)據(jù)采集中，可選用混合掃描數(shù)據(jù)采集模式，使用集成的軟件進(jìn)行時(shí)序分析。

儀器參數(shù)：

背景噪聲220≤5cps
靈敏度：Be≥5，In≥150，Bi≥100檢出限（ng/L) Be≤4，In≤2，Bi≤2
豐度靈敏度IM-1/IM≤1×10-6，IM+1/IM≤5×10-7
氧化物離子產(chǎn)率：156CeO+/140Ce+≤3%或154BaO+/138Ba+≤3%
雙電荷離子產(chǎn)率：69Ba++/138Ba+≤3%
質(zhì)量穩(wěn)定性9（Be）±0.05，115（In）±0.05，209（Bi）±0.05
質(zhì)量分辨率（u）≤0.8
沖洗時(shí)間（s）≤60
同位素豐度比測量精度107Ag/109Ag≤0.2% 206Pb/208Pb≤0.2%
短期穩(wěn)定性≤3.0%；長期穩(wěn)定性≤5.0%

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