光學設(shè)備、實驗室儀器等需要使用潔凈干燥空氣進行各種用途的吹掃。吹掃氣體有可能把不需要的氣態(tài)污染物引入光學鏡片和硅片區(qū)域。這種污染物會吸收光，在鏡片上留下淀積物或者淀積在進行工藝加工中的硅片上，從而導致產(chǎn)品損失（很差的圖形品質(zhì)）和潛在的工藝設(shè)備損壞（污染物在鏡片表面積聚）。對于使用潔凈干燥空氣作為鏡片的吹掃氣體所碰到的問題，本公司提供了完滿的解決方案，潔凈氣體干燥純化器針對半導體應(yīng)用超高純氣體而設(shè)計的，采用脫烴、硫化物、鹵化物、殘油、灰塵顆粒等雜質(zhì)，從而得到潔凈干燥氣體。