詳細摘要: JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術(shù)實現(xiàn)了高速、高精度和...
產(chǎn)品型號:所在地:廣州市更新時間:2024-12-01 在線留言粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 分離設(shè)備 濃縮結(jié)晶設(shè)備 傳質(zhì)設(shè)備 干燥設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 換熱設(shè)備 制冷設(shè)備 空分設(shè)備 儲存設(shè)備 鍋爐|加熱設(shè)備 包裝機械 輸送設(shè)備 化工實驗室設(shè)備