天健創(chuàng)新(北京)監(jiān)測儀表股份有限公司回放
開播時間04-22 13:481.表面防護(hù)技術(shù)
幾種常用的鋁合金門窗/表面處理技術(shù)如下1141:
(l)化學(xué)轉(zhuǎn)化膜的處理
化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理有很多方法,如:陽極氧化法、化學(xué)氧化法、微弧氧化法、有機(jī)
硅烷化處理法、稀土轉(zhuǎn)化膜、電泳涂漆處理及磷化底漆處理等。
(2)金屬涂層的處理
包括鋁合金門窗的電鍍工藝、隔熱斷橋門窗/的化學(xué)鍍工藝、粉末噴涂等幾種方法。
(3)激光技術(shù)及離子注入它包括激光技術(shù)和離子注入兩種。
2.鋁合金門窗表面化學(xué)鍍
(l)化學(xué)鍍的定義及化學(xué)鍍鎳機(jī)理
化學(xué)鍍是在催化條件下發(fā)生的氧化和還原反應(yīng),它借助適當(dāng)?shù)倪€原劑把溶液中的
金屬離子還原成為金屬原子,金屬原子沉積在制件表面,zui終形成一層覆蓋層。
對于化學(xué)鍍鎳磷(Ni一)的機(jī)理目前沒有統(tǒng)一的認(rèn)識,只有Brelme:和Gutzeit
提出的原子氫態(tài)理論在指導(dǎo)化學(xué)鍍鎳的實(shí)踐中起著很好的作用,并得到了普遍的認(rèn)
同。他們普遍認(rèn)為化學(xué)鍍Ni--P的機(jī)理如下:
在鍍件表面上,次磷酸鹽zui先分解:
HZpoZ一+HZo*HPo3,’ +H++2[H](1.1)
其中包含的一部分原子態(tài)氫[H]將鎳離子(Ni2+)還原成金屬原子鎳(Ni)
Ni, ++2[H]*Ni+ZH+(1.2)
一部分活性原子態(tài)氫[H]將HZPoZ一還原,zui終析出磷(P):
HZPo,.+[H]*HZo+oH’ +P(1.3)
另一部分活性原子態(tài)氫[H]之間相互結(jié)合,zui后析出氫氣(HZ):
2[H]一 HZt(1.4)
析出的磷(P)與鎳伽i)具有自催化作用并組成Ni--P合金鍍層,因此反應(yīng)可以在鍍
層上不斷繼續(xù)進(jìn)行,使鍍層不斷增厚[”!。
(2)化學(xué)鍍鎳的發(fā)展及其應(yīng)用
化學(xué)鍍鎳是化學(xué)鍍中發(fā)展得zui完善的方法,化學(xué)鍍是依靠溶液中存在的化學(xué)反應(yīng)
zui終實(shí)現(xiàn)表面沉積的一種方法,不需要外加電源提供電子使金屬離子還原?;瘜W(xué)鍍鎳
的出現(xiàn)始于 1845年,沃特茲(W叭z)zui先利用還原劑次磷酸鹽,將金屬鎳粉末從其鹽
的水溶液中還原出來;1916年,Roux獲得了美國化學(xué)鍍鎳的*個,在反應(yīng)器
的表面上,他利用還原劑次磷酸鹽得到了光亮的鎳磷合金鍍層,然而這一技術(shù)在當(dāng)時
并沒有受到重視;1946年,形ddl和Brelmer和提出了化學(xué)鍍的具體工藝,并zui終將
其發(fā)展應(yīng)用!’“]。
化學(xué)鍍鎳技術(shù)在zui近的50多年中得到了迅速的發(fā)展。1978一1982年,高磷化學(xué)
鍍層的成功研究標(biāo)志著化學(xué)鍍鎳技術(shù)進(jìn)入一個更高的階段,并且獲得非晶態(tài)鍍層?;瘜W(xué)鍍鎳能夠獲得如此飛速的發(fā)展,是因?yàn)樗鄬τ诩崩浞ā釃婂兊确椒ㄓ懈鄡?yōu)點(diǎn),
如:簡單方便、鍍層材料有很好的物理和化學(xué)性能。
1995年孫光濤,周由?!?rdquo;]在鋁合金門窗表面沉積了Ni一合金涂層,涂層與鋁合金門窗基
體結(jié)合力良好、涂層的硬度高、耐蝕性能也很優(yōu)異,可用來保護(hù)與裝飾航空精密儀器
儀表。1999年劉英,張瑞杰在鋁及鋁合金門窗表面上制備了化學(xué)鍍Ni一合金涂層,鍍
層不但光亮而且美觀,經(jīng)適當(dāng)技術(shù)保護(hù)后在電阻爐中進(jìn)行加熱處理,硬度能夠達(dá)到
HVI100一1200,并且該項(xiàng)成果已成功的得到廣泛的應(yīng)用,如:中星光*ZX-11、
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